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光引发剂784的分子结构与光敏性能

2025-03-19

光引发剂784的化学名称为双2,6-二氟-3-吡咯苯基二茂钛,分子式为C30H22F4N2Ti

一、分子结构

光引发剂784的分子结构中包含两个2,6-二氟-3-吡咯苯基基团与一个二茂钛中心。二茂钛部分由两个环戊二烯基负离子与钛原子配位形成,具有夹心结构,这结构使得光引发剂784具有一定的稳定性和独特的光化学性质,两个2,6-二氟-3-吡咯苯基基团则通过与钛原子的化学键相连,它们的存在影响着光引发剂的吸收光谱和反应活性。

二、光敏性能

吸收特性:光引发剂784在可见光和紫外光区域都有吸收。在甲醇溶液中,其吸收峰为398nm470nm,此外在560nm处也有吸收。其吸收谱带较宽,能充分利用不同波长的光源,可在紫外光、可见光甚至合适的激光照射下引发反应,如Ar-激光(488nm)、FD - Nd/YAG - 激光(532nm)。

引发效率:784的感光灵敏度和光引发活性很高,在丙烯酸酯体系中,只需0.8mJ/cm^2488nm光照就可以引发聚合。在0.3%添加量时,其引发效率比2%的651高出2-6倍。

适用场景:由于其特殊的光引发机理,光引发剂784非常适合于厚涂层以及深色固化体系,可固化70μm以上厚度的涂层和黑色、红色以及高颜料涂层。光解后有漂白作用,在固化过程中隔绝氧气可以得到良好的固化性能,然而,它对氧气敏感,且本身有颜色,这在一定程度上限制了其使用范围,比较适合用在一些特殊领域中。

本文来源于:岳阳市金茂泰科技有限公司官网http://www.kimoutain.cn/