光引发剂784在光致抗蚀剂中起着关键作用，主要包括以下几个方面：

引发聚合反应：光引发剂784是一种具有较高反应活性的橙色固体光引发剂。在光致抗蚀剂中，它能够吸收特定波长的光（如紫外光或可见光），吸收光能后发生光化学反应，产生自由基，这些自由基可以引发抗蚀剂中的单体和预聚物发生聚合反应，使曝光区域的抗蚀剂发生交联或固化，从而改变其溶解性等物理化学性质。对于负性光致抗蚀剂，曝光区域固化后变得不溶，在显影过程中未曝光部分被溶解掉，留下曝光部分的图形；对于正性光致抗蚀剂，曝光区域发生光化学反应后变得可溶，未曝光部分则保持不溶，显影时曝光部分被溶解掉，留下未曝光部分的图形。

决定光敏感性：光引发剂784决定了光致抗蚀剂对光的敏感性，它具有良好的光活性，能在较低的光剂量下快速引发聚合反应，使得光致抗蚀剂能够对特定波长和强度的光产生灵敏的响应，实现精确的图形转移。其光吸收范围较广，在210-500nm之间有吸收，光吸收峰值为398nm和470nm，这使得它可以适用于多种光源的曝光系统，如紫外光光源、可见光光源以及一些特定的激光光源，如 Ar-激光（488nm）、FD-Nd/YAG-激光（532nm）等。

影响固化深度和质量：光引发剂784具有良好的穿透性，能够吸收不同波长的光，产生的自由基可以在抗蚀剂体系中深入传播，从而实现光致抗蚀剂的深层固化。即使对于较厚的抗蚀剂涂层，也能确保从表面到内部都能充分固化，形成均匀、性能良好的固化膜，有利于提高光刻工艺的分辨率和图形质量，减少因固化不完全导致的图形变形、线条粗糙等问题。

与其他成分相容性好：光引发剂784能与光致抗蚀剂中的各种成分，如感光树脂、单体、溶剂和其他助剂等良好相容，不会出现相分离或沉淀等现象，保证了抗蚀剂体系的稳定性和均匀性，有利于抗蚀剂的储存和涂布工艺的进行，使得在涂覆光致抗蚀剂时能够形成均匀的薄膜，并且在曝光和显影过程中能够保持稳定的性能。

本文来源于：岳阳市金茂泰科技有限公司官网http://www.kimoutain.cn/